ASML DUV光刻机亮相让边缘定位精度不断提高

　　据悉，ASML之所以没有展示新的EUV光刻机，主要是因为他们目前仍不能向中国出口EUV光刻机，而此次展示的DUV光刻机可生产7nm及以上制程

　　ASML此次也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。

　　在这之前，ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况，其表示一些情况下，出口光刻机是不需要许可证的。

　　Roger Dassen指出，ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释，当然也知道这些与特定的中国客户密切相关，但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义（对于特定的中国客户），则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。

　　美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。

　　目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。

　　EUV光刻机采用13．5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星Intel的5nm产线就无法投产。

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